Станок экспонирования форм fliptop

Станок экспонирования форм fliptop

1. Высокоскоростное двустороннее двойное вакуумное основание для экспонирования

Двустороннее экспонирование с переворотом на высоте операции 1200 мм. Простая и удобная операция удовлетворяет требованию массовой и тонкой копировальной работы на раме экспонирования с переворотом McLantis.

2. Двухступенчатая высокоскоростная вакуумная система

Двухступенчатая высокоскоростная система вакуумной откачки комплектуется быстро и плавно на раме экспонирования с переворотом McLantis. Применима к плотным растровым линиям и кристаллическим растровым точкам, точки не искажаются.

3. Точный интегратор света

Точный интегратор света на раме экспонирования с переворотом McLantis точно удерживает ошибку в пределах 2%, устраняя нестабильное экспонирование и искажение растровых точек, вызванные ухудшением ламп, активацией света и нестабильностью напряжения, сохраняя равномерность напряжения и т. д.

4. Равномерность света и мощная УФ-лампа

УФ-стойкий и антиокислительный отражатель света сохраняет равномерность света и пластины. Ультракороткое время экспонирования переключаемой постоянной УФ-лампы 5000 Вт, применимо для газетной печати и массовой печати пластин.

МодельЭкспонирующая машина для пластин с переворотом EXPOMAC
85F110F
Область экспонирования (mm)850×10501100×1300
Источник светапостоянная УФ-лампа 3000/5000
Управление экспонированиемуправление интегратором света или CPU
Вакуумная системаДве системы высокоскоростной двухконтурной вакуумной откачки
Источник питания220V 1 фаза 50/60HZ 30A
Вес нетто (kg)350500
Вес брутто (kg)430580
Размер машины (мм)1150×980×11001620×1350×1200
Размер упаковки (мм)1150×1300×12701970×1820×1510

Часто задаваемые вопросы

Что такое Станок экспонирования форм fliptop?

Высокоскоростное двустороннее двойное вакуумное основание для экспонирования Precision laser imaging and prepress equipment for printing, PCB and electron…

К Экспонирование пластин →