Offset Plattenbelichtungsanlage

Offset Plattenbelichtungsanlage

1. Zwei-Schritt-Hochgeschwindigkeits-Vakuum-System

Das zwei-Schritt-Hochgeschwindigkeits-Vakuum-Entleerungssystem der Plattenbelichtungsanlage von McLantis kann die Vakuum-Entleerung vom Zentrum aus ausbreiten und somit eine 70 % höhere Geschwindigkeit als eine durchschnittliche Belichtungsrahmen gewährleisten. (Eine Platte aus jedem Material kann innerhalb einer Minute belichtet werden)

2. Exzellenter Lichtquellen

Der hochwertige Reflektorschirm der Plattenbelichtungsanlage von McLantis hat eine starke Reflektion, die als über 86 % Uniformität bestätigt wurde. Ein guter violetter Lichtquellen mit Wellenlänge von 365-420 NM hat eine Lichtintensität, die dreimal höher ist als bei Durchschnittsmodellen. Hohe Belichtungsqualität und lange Lebensdauer. Anti-Elektrostatik橡胶布 und Blockgine mit starkem Luftdicht und Haltbarkeit.

3. Sekundärbelichtungssystem

Das Sekundärbelichtungssystem der Plattenbelichtungsanlage von McLantis kann Schmutzstellen und Abdrücke des Blockgines effizient entfernen, wodurch die Nachbearbeitungsarbeit reduziert und die Effizienz der Arbeit erhöht wird.

4. Öllose Vakuumpumpe

Die beste Qualität öllose Vakuumpumpe der Plattenbelichtungsanlage von McLantis läuft leise und benötigt keine Wartung.

5. Präzisionsintegrierter Lichtmesser

Der präzise integrierte Lichtmesser der Kontaktschichtbelichtungsrahmen von McLantis misst automatisch die Lichtintensität der Lichtquelle, um den Fehlerbereich innerhalb von 2 % genau zu halten und die Verzerrung der Schirmpunkte zu vermeiden, die durch die Verschlechterung der Lampen, die Unstabilität der Spannung usw. verursacht wird.

6. Einfache Bedienung und lange Betriebszeit

Das Bildschirm kann 5 Sets von Daten anzuzeigen. Der CPU kann mehrere Sets von Daten speichern. Verstärkter Stahlrahmen, verarbeitet mit CNC und dicker Filmbeschichtung von Elektrostatische Pulver für ultra-lange Betriebszeit. Externe Verbindung Fabrikinspektion auf 0-100 Schritt Druck herunter, um sicherzustellen, dass 2 % der Halbtonpunkte nicht verloren und 98 % nicht gemischt werden.

ModellEXPOMAC offset plate exposure
122E135E145E180E
Belichtungsfläche (mm)850×11001060×13501200x14501500×1800
Lichtquelle3KW violet lamp (5KW violet lamp is optional)
Vakuumsystemhigh speed dual-loop vacuum-exhausting system
Vakuumgrad760mmHg (30inHg)
Belichtungsgleichmäßigkeit85%-95%
Vakuumabsaugungpreliminary vacuum exhausting and major vacuum exhausting
Belichtungmajor exposure and second exposure
Stromversorgung220V 50/60HZ 32A single phase
Nettogewicht (kg)270320360385
Bruttogewicht (kg)345430450480
Reflexionsglas (mm)1348x1093x51597x1343x81450x1690x81990x1557x8
Gummipolster (mm)1348x1093x31597x1343x31450x1690x31990x1557x3
Druckwellenlagerbegrenzung (kg)90110115120
Maschinenmaße (mm)1570x1230x22801820x1480x23601440x2050x21002210x1700x2480
Verpackungsmaße (mm)1650x1450x12001900x1600x12001520x2350x24002290x1820x1200

Frequently Asked Questions

Was sind die wichtigsten Spezifikationen von Offset Plattenbelichtungsanlage?

Belichtungsfläche (mm): 850×1100; Lichtquelle: 3KW violet lamp (5KW violet lamp is optional); Vakuumsystem: high speed dual-loop vacuum-exhausting system; Vakuumgrad: 760mmHg (30inHg); Belichtungsgleichmäßigkeit: 85%-95%; Vakuumabsaugung: preliminary vacuum exhausting and major vacuum exhausting; Belichtung: major exposure and second exposure; Stromversorgung: 220V 50/60HZ 32A single phase; Nettogewicht (kg): 270; Bruttogewicht (kg): 345; Reflexionsglas (mm): 1348x1093x5; Gummipolster (mm): 1348x1093x3

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