Offset Plattenbelichtungsanlage

1. Zwei-Schritt-Hochgeschwindigkeits-Vakuum-System
Das zwei-Schritt-Hochgeschwindigkeits-Vakuum-Entleerungssystem der Plattenbelichtungsanlage von McLantis kann die Vakuum-Entleerung vom Zentrum aus ausbreiten und somit eine 70 % höhere Geschwindigkeit als eine durchschnittliche Belichtungsrahmen gewährleisten. (Eine Platte aus jedem Material kann innerhalb einer Minute belichtet werden)
2. Exzellenter Lichtquellen
Der hochwertige Reflektorschirm der Plattenbelichtungsanlage von McLantis hat eine starke Reflektion, die als über 86 % Uniformität bestätigt wurde. Ein guter violetter Lichtquellen mit Wellenlänge von 365-420 NM hat eine Lichtintensität, die dreimal höher ist als bei Durchschnittsmodellen. Hohe Belichtungsqualität und lange Lebensdauer. Anti-Elektrostatik橡胶布 und Blockgine mit starkem Luftdicht und Haltbarkeit.
3. Sekundärbelichtungssystem
Das Sekundärbelichtungssystem der Plattenbelichtungsanlage von McLantis kann Schmutzstellen und Abdrücke des Blockgines effizient entfernen, wodurch die Nachbearbeitungsarbeit reduziert und die Effizienz der Arbeit erhöht wird.
4. Öllose Vakuumpumpe
Die beste Qualität öllose Vakuumpumpe der Plattenbelichtungsanlage von McLantis läuft leise und benötigt keine Wartung.
5. Präzisionsintegrierter Lichtmesser
Der präzise integrierte Lichtmesser der Kontaktschichtbelichtungsrahmen von McLantis misst automatisch die Lichtintensität der Lichtquelle, um den Fehlerbereich innerhalb von 2 % genau zu halten und die Verzerrung der Schirmpunkte zu vermeiden, die durch die Verschlechterung der Lampen, die Unstabilität der Spannung usw. verursacht wird.
6. Einfache Bedienung und lange Betriebszeit
Das Bildschirm kann 5 Sets von Daten anzuzeigen. Der CPU kann mehrere Sets von Daten speichern. Verstärkter Stahlrahmen, verarbeitet mit CNC und dicker Filmbeschichtung von Elektrostatische Pulver für ultra-lange Betriebszeit. Externe Verbindung Fabrikinspektion auf 0-100 Schritt Druck herunter, um sicherzustellen, dass 2 % der Halbtonpunkte nicht verloren und 98 % nicht gemischt werden.

| Modell | EXPOMAC offset plate exposure | |||
|---|---|---|---|---|
| 122E | 135E | 145E | 180E | |
| Belichtungsfläche (mm) | 850× | 1060× | 1200x1450 | 1500× |
| Lichtquelle | 3KW violet lamp (5KW violet lamp is optional) | |||
| Vakuumsystem | high speed dual-loop vacuum-exhausting system | |||
| Vakuumgrad | 760mmHg (30inHg) | |||
| Belichtungsgleichmäßigkeit | 85%-95% | |||
| Vakuumabsaugung | preliminary vacuum exhausting and major vacuum exhausting | |||
| Belichtung | major exposure and second exposure | |||
| Stromversorgung | 220V 50/60HZ 32A single phase | |||
| Nettogewicht (kg) | 270 | 320 | 360 | 385 |
| Bruttogewicht (kg) | 345 | 430 | 450 | 480 |
| Reflexionsglas (mm) | 1348x1093x5 | 1597x1343x8 | 1450x1690x8 | 1990x1557x8 |
| Gummipolster (mm) | 1348x1093x3 | 1597x1343x3 | 1450x1690x3 | 1990x1557x3 |
| Druckwellenlagerbegrenzung (kg) | 90 | 110 | 115 | 120 |
| Maschinenmaße (mm) | 1570x1230x2280 | 1820x1480x2360 | 1440x2050x2100 | 2210x1700x2480 |
| Verpackungsmaße (mm) | 1650x1450x1200 | 1900x1600x1200 | 1520x2350x2400 | 2290x1820x1200 |
Frequently Asked Questions
Was sind die wichtigsten Spezifikationen von Offset Plattenbelichtungsanlage?
Belichtungsfläche (mm): 850×1100; Lichtquelle: 3KW violet lamp (5KW violet lamp is optional); Vakuumsystem: high speed dual-loop vacuum-exhausting system; Vakuumgrad: 760mmHg (30inHg); Belichtungsgleichmäßigkeit: 85%-95%; Vakuumabsaugung: preliminary vacuum exhausting and major vacuum exhausting; Belichtung: major exposure and second exposure; Stromversorgung: 220V 50/60HZ 32A single phase; Nettogewicht (kg): 270; Bruttogewicht (kg): 345; Reflexionsglas (mm): 1348x1093x5; Gummipolster (mm): 1348x1093x3